p; 屏幕上，一个红色的警报框，跳了出来。
林伟皱起眉，重新输入参数，再次运行。
十分钟后。
同样的红色警报框，再次出现。
他换了三种算法，推演了四遍。
结果，都指向同一个结论。
林伟站起来，快步走到钱建华身边。
钱建华正在一块白板前，记录一组刚刚测试出来的光谱数据。
“钱教授。”
林伟的声音压得很低。
钱建华放下笔，转过身。
“怎么了？”
“模型。”
林伟指了指不远处的计算机。
“我用他们给的工艺参数，模拟了第三道蚀刻工序。”
“良品率，存在一个理论上限。”
“无论怎么优化参数，调整功率，都无法突破这个上限。”
钱建华的目光，动了一下。
他跟着林伟，走到那台计算机前。
林伟把模拟过程，又演示了一遍。
钱建华看着屏幕上的曲线图，那条无论如何都无法再往上攀升的曲线。
“你的推论是什么？”
“他们的蚀刻光源，存在设计缺陷。”
林伟说。
“光源的角度和聚焦算法，在微米级别，有一个致命的瑕疵。”
“这个瑕疵，会导致每一片晶圆上，都有固定百分之五左右的区域，蚀刻不完全。”
钱建华沉默地看着屏幕，看了很久。
“这件事，还有谁知道？”
“只有我。”
“好。”
钱建华直起身，拍了拍林伟的肩膀。
“把所有数据备份，然后，把模拟记录全部删掉。”
林伟愣住了。
“教授，这是他们的致命缺陷，我们应该……”
“时机未到。”
钱建华打断他。
“你什么都没有发现。”
“继续你的工作。”
钱建华说完，转身走回那块白板前，继续记录他的数据。
就好像，刚才的一切，都没有发生。
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